Drei-Achs-Maskensystem für den Einsatz in der Standard-, Elektronenstrahl- und hochauflösenden sowie automatisierten UV-Lithografie (Foto:123RF/babar760)
Präzises Positioniersystem für UV-Belichtungsmasken
Die Steinmeyer Mechatronik GmbH hat in Kooperation mit der August Steinmeyer GmbH & Co. KG ein hochpräzises Positioniersystem für die Anwendung in trockener Stickstoffatmosphäre oder Vakuum entwickelt. Das Maskensystem eignet sich ideal für den Einsatz in der Standard- sowie hochauflösenden UV-Lithografie und ermöglicht eine sehr feine XY-Theta-Ausrichtung von Belichtungsmasken mit bis zu 0.03 µrad. Darin kommen Miniatur-Kugelgewindetriebe aus Albstadt zum Einsatz, die besonders hohen Anforderungen an die Gleichmäßigkeit der Vorspannung und Laufgüte in der Anwendung gerecht werden.
Miniaturkugelgewindetriebe in Vakuum oder Stickstoffumgebungen weiterlesen